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等离子清洗‍机相关介绍

2021-06-29

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说起等离子清洗‍机大家可能比较陌生,但是它确实有着较为广泛且十分重要的应用,它的重要性体现在它能够清洗半导体芯片等目前中国继续突破瓶颈的产品,能够使光刻胶灰化从而实现样品清洁改性涂覆,可以说它是我们实现科技兴国路上一件必不可少的仪器,今天我们一块对此深入了解一番。

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这种设备是一种全新的高科技技术利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。通过对样品表面进行改性同时除掉表面有机物使多种材料之间能够进行贴合涂覆镀膜等工艺操作。从研究开发到工艺生产使用从表面微细加工到表面处理改质效果都非常好应用广泛。

通常物质以固态液态气态三种状态存在但在一些特殊的情况下有四种状态存在,等离子体状态中存在下列物质处于高速运动状态的电子;这种高速的离子作用到污垢表面能够很好的达到清洁效果。

在大气环境下(不需要真空泵)使用氧气或者氢气制程,射频电源电离其形成氧离子或者氢离子,通过化学反应带走晶圆表面的有机脏污和氧化物,由于是化学反应所以不会有等离子轰击和颗粒污染,100%中性的等离子不会对产品表面造成任何损伤和无静电释放产品更加安全友好。大气式等离子清洗系统可满足SECS/GEM和OHT需求,相比传统方式效率提升2~5倍,使用成本降低30%以上,可满足Class 10级无尘,符合SEMI S2、S6、S8。

当然等离子清洗‍机的应用绝非仅仅是清洗半导体芯片表面那么简单,它的应用可以说是十分广泛的,理论上它几乎可以用所有的工业产品表面清洗工作中,现实应用上我们常拿它清洗橡胶塑料金属制品纺织品陶瓷玻璃等的表面。


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