2022-03-17
在微电子技术的发展同时等离子清洗技术的优势也越来越大,特别是在半导体器件的生产过程中,只要能够避免一些颗粒或者有机物残留在晶体表面,那么运用等离子清洗技术是非常合适的一种手段,那么接下来要详细讲解等离子清洗技术有哪些应用?
1,什么是等离子清洗
等离子体是由正离子和负离子自由电子等带电粒子和带电微粒组成,总的来说正负电荷相等所以被称为等离子体,从胃的角度来说是物质存在的另一种形态,利用相应的化学性质能够转化为实际需要的生产技术。另外他非常容易和顾忌的表面发生反应,从分子的水平通过物理或者化学作用将电子元件的表面或者半成品零件的表面物质去除,这种方法就叫做等离子清理。
2,利用活性微粒活化除污
等离子清洗的主要机制就是通过利用等离子体中的活力移位性去活化从而去除物体表面污染污迹,将无机气体激发成等离子体,然后媳妇固体表面分子,生成产物分子,反映后与原件表面分离。
3,技术应用领域
等离子清理技术的应用领域非常的广泛,能够处理金属半导体氧化物有机化合物和大部分的聚合物层,并且等离子清理技术不受介质材料的影响,同时只需要有气体流速就可以进行净化,另外不管是整体环境还是局部环境,不管是简单结构还是复杂结构都能够不通过化学剂清洗来进行除污。
等离子清理技术环保污染,而且相关的制造成本比较,同时在使用过程中清洗也非常均匀,另外重复性也非常的好能够在生产过程中更好的控制,同时也能够更好的进行批量生产,对于需要这项技术的客户可以选择 Axxon品牌产品,技术成熟且能够为客户提供技术支持。